光刻机本质上是一套超精密的光学投影系统，其结构可概括为由光源系统、光学系统（含照明与投影物镜）、工件台系统（含掩模台与硅片台）三大核心构成，辅以环境控制、减振、对准等复杂的支撑系统。工作时，光源发出的光束经照明系统均匀化后，穿过刻有电路图案的掩模版，再通过由数十片透镜或反射镜组成的高精度投影物镜，将图案缩小并聚焦到涂有光刻胶的硅片上。与此同时，双工件台以纳米级定位精度高速交替运动，分别执行曝光与测量对准任务，ppt如下：

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