对于鞘层的理解，就好像是剑放在鞘里，将剑与外界隔开，从而保护等离子体。这就是鞘层的直观理解。对于等离子体来说，同样存在鞘层。

等离子体鞘层在磁控溅射中的作用至关重要。考虑在一个平行的平板结构，内部有均匀分布的等离子体，由于电子的质量轻，离子的质量远高于电子，在考虑壁面吸收的边界条件下，电子运动到边界，因此壁面带负电，因此在靠近壁面处，电子的数量低于离子的数量，因此相对于边界来说，为正电势，该正电势会阻止电子到壁面的运动，同时会加速离子到壁面，从而造成壁面的溅射，从而完成对对材料的刻蚀以及表面处理。等离子体的刻蚀在等离子体的研究中具有很重要的作用，几乎所有的放电等离子体都在边界处存在鞘层。因此鞘层的研究具有重要的意义，对于鞘层的模拟有粒子模拟和流体模拟两种方法。